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美商务部向 ASML 表达关切:顶级 EUV 光刻机疑流入中国
据彭博社周四报道,美国商务部长霍华德·卢特尼克(Howard Lutnick)已在一系列会谈中向荷兰芯片设备巨头 ASML 的高层管理人员表达关切,认为该公司一台最尖端的机器可能已经流入中国,违反了美国主导的出口限制。报道援引知情人士称,卢特尼克在会谈中特别点名了 ASML 的极紫外光刻(EUV)设备——这是制造最先进制程芯片不可或缺、全球唯有 ASML 能供应的核心装备,长期被列入对华出口黑名单。EUV 设备一旦落入受限方手中,意味着先进逻辑芯片的自主生产能力可能取得突破,这正是美国出口管制体系最敏感的红线。ASML 方面尚未对报道置评。事件凸显美国在收紧半导体供应链管控上的持续焦虑,也将 ASML 推到中美科技博弈的最前沿——该公司既要服从美方合规要求,又难以完全切断中国这一关键市场。
原始来源 · SOURCES
Reuters